1. ホーム
  2. プリンター技術
  3. ZEOMET技術

ZEOMET技術

導電粒子の描画 ZEOMET技術

電子写真技術を利用して、導電金属などの微細粒子をパターニングする技術開発を起業以来、続けています。
特に2002年頃からは本格的に研究を手がけ、大手企業との共同開発などを手がけてきました。
電子写真技術は基本的に静電気の力を利用します。レーザープリンターで代表される技術です。
レーザープリンターでは光半導体の感光体というドラムに帯電、レーザー光で露光描画を行い、感光体表面に静電潜像パターンを作成します。感光体ドラムの潜像部分へトナー粒子を静電現像して、紙などのメディアへ静電気で転写を行います。
当社では、電子写真技術を、感光体を使わなくても、静電パターンを生成して、微細粒子を吸着、転写技術を
行う研究をしています。 特に金属はほとんど導電なので、パターン化する手法をZEOMET技術と呼んでいます。

 

過去、国の助成事業として平成19年度戦略的基盤技術高度化支援事業 微細ボールバンプ形成技術及び
バンピングシステム開発に採択され半導体ウェハー上に形成されたICチップのBGA電極へのハンダボール搭載を企業連携で実施しました。
これらの各種経験実績に基づき、研究を続けています。

 

 
            基本原理図
1)感光体ドラムにコロナ帯電
2)レーザー光によるパターン描画、静電潜像が出来る。
3)金属粉体粒子を静電潜像に現像
4)転写媒体

本技術を適用するためには、金属粒子や導電粒子を感光体ドラム(あるいは静電原板ドラム)へ現像,転写するために、粒子表面の改質を行う必要があります。これをトナー化と呼びます。粒子表面に電荷が乗って維持できることをいいます。
原理図での現像ロール上の金属粉体粒子は、トナー化処理された状態です。粒子サイズによって、現像方式を乾式現像法と湿式現像法を選択します。5ミクロン以下の粒子サイズでは湿式現像法を用います。最近では粒子サイズはサブミクロンの世界になるので、基本的に湿式現像方式への研究を行っています。
銀粒子、ニッケル粒子、銅粒子、導電性カーボン粒子などを手がけています。電気抵抗に関しては、粒子同士による接触であり、バルクに比べて高くなります。
銅の配線用のバルク材料と同等にはなりません。応用によって適応判断する必要があります。

(以下、左からニッケル、ニッケル0.1×0.24mm、銀粒子焼結パターン)

ニッケル ニッケル0.1x0.24mm 銀粒子焼結パターン
感光体上に現像されたΦ3μ銅粒子感光体上に現像されたΦ3μ銅粒子

    感光体上に現像されたΦ3μ銅粒子


半導体ウェハー上のICチップPGA電極に形成された半田ボール群

本ZEOMET技術によって、スクリーン印刷などの版に替わって、ダイレクト印刷が可能となり、製造のスピード
など生産性の革新を生みます。
本技術は技術供与、共同開発プロジェクトとして外部企業との連携を求めています。お問い合わせください。
 

お問い合わせ

お問い合わせ Inquiry
ページ上部へ戻る